Využití polymerních rezistů pro přípravu mikro a nanostruktur pomocí elektronové litografie

Saved in:

Bibliographic Details
Main Author	Navrátil, Jaroslav (Dissertant)
Other Authors	Urbánek, Michal (Thesis advisor)
Format	Manuscript Book
Language	Czech
Published	2020
Subjects	Elektronová litografie polymerní rezist proces vyvolání kontrast rezistu optická mikroskopie mechanická profilometrie AFM Electron-beam lithography polymer resist process of resist development contrast of resist optical microscopy mechanical profilometry bakalářská práce
Online Access	Plný text v Digitální knihovně UTB
Physical Description	56 s.

Online Access

Plný text v Digitální knihovně UTB