DISTURBANCE COMPENSATION FOR CHARGED PARTICLE BEAM DEVICES
Charged particle beam devices, e.g., for repair tasks, are subject to disturbances. A sensor output of one or more sensors is used to compensate the disturbances, e.g., while executing a manipulation mode for repairing defects on a lithography mask. Des dispositifs à faisceau de particules chargées,...
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Format | Patent |
Language | English French |
Published |
17.07.2025
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Summary: | Charged particle beam devices, e.g., for repair tasks, are subject to disturbances. A sensor output of one or more sensors is used to compensate the disturbances, e.g., while executing a manipulation mode for repairing defects on a lithography mask.
Des dispositifs à faisceau de particules chargées, par exemple, pour des tâches de réparation, sont soumis à des perturbations. Une sortie de capteur d'un ou de plusieurs capteurs est utilisée pour compenser les perturbations, par exemple, tout en exécutant un mode de manipulation pour réparer des défauts sur un masque de lithographie. |
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Bibliography: | Application Number: WO2024EP50592 |