감소된 복굴절을 갖는 유리 기판을 제조하는 방법
복굴절 결함을 감소시키기 위해 유리-계 기판을 처리하는 방법 및 유리-계 기판이 개시된다. 일 구체예에서, 유리-계 기판을 처리하기 위한 방법은 상기 유리-계 기판을 형성하기 위해 유리-계 물질을 롤링하는 단계, 및 상기 유리-계 기판의 온도를 증가시킴으로써 유리-계 기판을 열처리하는 단계, 상기 온도를 유지 기간 동안 최대 온도로 유지하는 단계, 및 이후 상기 온도를 일 이상의 냉각 속도로 감소시키는 단계를 포함하며, 여기서 상기 열처리 후에, 상기 유리-계 기판은 상기 유리-계 기판의 임의의 모서리로부터 5 mm 및 이의 외부...
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Format | Patent |
Language | Korean |
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21.12.2020
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Summary: | 복굴절 결함을 감소시키기 위해 유리-계 기판을 처리하는 방법 및 유리-계 기판이 개시된다. 일 구체예에서, 유리-계 기판을 처리하기 위한 방법은 상기 유리-계 기판을 형성하기 위해 유리-계 물질을 롤링하는 단계, 및 상기 유리-계 기판의 온도를 증가시킴으로써 유리-계 기판을 열처리하는 단계, 상기 온도를 유지 기간 동안 최대 온도로 유지하는 단계, 및 이후 상기 온도를 일 이상의 냉각 속도로 감소시키는 단계를 포함하며, 여기서 상기 열처리 후에, 상기 유리-계 기판은 상기 유리-계 기판의 임의의 모서리로부터 5 mm 및 이의 외부 및 상기 유리-계 기판의 임의의 에지(edge)로부터 5 mm 및 이의 외부의 모든 위치에서 5 nm/mm 이하의 피크-투-밸리(peak-to-valley)의 두께에 걸친 지연(retardance)을 갖는다.
Methods of processing glass-based substrates to reduce birefringent defects and glass-based substrates are disclosed. In one embodiment, a method for processing a glass-based substrate includes rolling a glass-based material to form the glass-based substrate, and heat treating the glass-based substrate by increasing a temperate of the glass-based substrate, holding the temperature at a maximum temperature for a hold period, and then decreasing the temperature at one or more cooling rates, wherein after the heat treating, the glass-based substrate has a retardance over thickness of 5nm/mm or less at locations outside of and including 5mm from any corner of the glass-based substrate and outside of and including 5mm from any edge of the glass-based substrate. |
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Bibliography: | Application Number: KR20207030857 |