磁性复合流体抛光氧化锆陶瓷的工艺优化

TG73%TG58; 为提高氧化锆陶瓷工件的表面质量,采用磁性复合流体(由包含纳米级铁磁颗粒的磁流体与包含微米级羰基铁颗粒的磁流变液混合而成)对氧化锆陶瓷进行抛光,以达到降低材料表面粗糙度和减少表面与亚表面损伤的目的.利用田口方法设计3因素3水平正交试验,着重分析磁铁转速、加工间隙和抛光液磨粒粒径对表面粗糙度和材料去除率的影响规律,并采用方差分析法分析各因素对2个评价指标的影响权重.可达到最低表面粗糙度的工艺参数组合为:磁铁转速,300 r/min;加工间隙,0.5 mm;磨粒粒径,1.25 μm.可达到最高材料去除率的工艺参数组合为:磁铁转速,400 r/min;加工间隙,0.5 mm;磨粒...

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Published in金刚石与磨料磨具工程 Vol. 43; no. 6; pp. 712 - 719
Main Authors 张泽林, 周宏明, 冯铭, 张祥雷, 陈卓杰
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 温州大学机电工程学院,浙江温州 325035 01.12.2023
Subjects
taguchi meth-od
正交试验
表面粗糙度
田口方法
zirconia ceramics
material removal
材料去除
磁性复合流体抛光
氧化锆陶瓷
magnetic compound fluid polishing
surface roughness
orthogonal experiment
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ISSN1006-852X
DOI10.13394/j.cnki.jgszz.2023.0003

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Summary:TG73%TG58; 为提高氧化锆陶瓷工件的表面质量,采用磁性复合流体(由包含纳米级铁磁颗粒的磁流体与包含微米级羰基铁颗粒的磁流变液混合而成)对氧化锆陶瓷进行抛光,以达到降低材料表面粗糙度和减少表面与亚表面损伤的目的.利用田口方法设计3因素3水平正交试验,着重分析磁铁转速、加工间隙和抛光液磨粒粒径对表面粗糙度和材料去除率的影响规律,并采用方差分析法分析各因素对2个评价指标的影响权重.可达到最低表面粗糙度的工艺参数组合为:磁铁转速,300 r/min;加工间隙,0.5 mm;磨粒粒径,1.25 μm.可达到最高材料去除率的工艺参数组合为:磁铁转速,400 r/min;加工间隙,0.5 mm;磨粒粒径,2.00 μm.根据优化的工艺参数进行抛光,表面粗糙度最低可达4.5 nm,材料去除率最高可达0.117 μm/min,优化效果显著.利用遗传算法优化BP神经网络建立抛光预测模型,预测误差为3.948 4％.
ISSN:1006-852X
DOI:10.13394/j.cnki.jgszz.2023.0003