多片式衬底HFCVD系统沉积金刚石颗粒物理场的仿真优化

TQ164; 探索热丝化学气相沉积(hot filament chemical vapor deposition,HFCVD)合成高效优质的金刚石已成为研究热点.采用可提高金刚石颗粒单次沉积产量的新型多片式栅状衬底,应用FLUENT流体仿真软件,在原有单个出气口数量及进气总流量保持不变的情况下,优化传统模型,将单个进气口拆分成5个大小相等的进气口,对影响金刚石单晶颗粒均匀性的进气口数量和排布方式工艺参数进行仿真,对比分析HFCVD系统内气体的物理场.结果显示:4组优化模型均提高了衬底温度及流速的均匀性,有利于金刚石单晶颗粒的均匀生长,但对其沉积速率影响不显著;进一步分析优化模型的温度场,发现5...

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Published in金刚石与磨料磨具工程 Vol. 43; no. 6; pp. 735 - 742
Main Authors 杨海霞, 伏明将, 罗健, 张韬
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 无锡职业技术学院,江苏无锡 214121%江苏科技大学,江苏镇江 212100%江苏海洋大学,江苏连云港 222005 01.12.2023
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ISSN1006-852X
DOI10.13394/j.cnki.jgszz.2023.0031

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Summary:TQ164; 探索热丝化学气相沉积(hot filament chemical vapor deposition,HFCVD)合成高效优质的金刚石已成为研究热点.采用可提高金刚石颗粒单次沉积产量的新型多片式栅状衬底,应用FLUENT流体仿真软件,在原有单个出气口数量及进气总流量保持不变的情况下,优化传统模型,将单个进气口拆分成5个大小相等的进气口,对影响金刚石单晶颗粒均匀性的进气口数量和排布方式工艺参数进行仿真,对比分析HFCVD系统内气体的物理场.结果显示:4组优化模型均提高了衬底温度及流速的均匀性,有利于金刚石单晶颗粒的均匀生长,但对其沉积速率影响不显著;进一步分析优化模型的温度场,发现5个进气口及单个出气口分别位于反应腔体顶部和底部的中间位置时系统的温度差最低,最满足金刚石单晶颗粒在多片式硅衬底上均匀生长的条件.HFCVD金刚石单晶颗粒沉积试验验证了仿真结果的正确性.
ISSN:1006-852X
DOI:10.13394/j.cnki.jgszz.2023.0031