基于边缘优化设计的低损耗Si3N4光功率分束器
O59%O439; 随着信息技术的发展,市场对于更小型化、更高效光器件的需求不断增加.采用互补金属氧化物半导体(complementary metal oxide semiconductor,CMOS)工艺,成功制备了 Si3N4光功率分束器并对其进行测试.结果表明,在1 550nm波长下,边缘优化的1x8功率分束器的总损耗仅为1.30 dB,且其体积相较于传统设计可减小30%.本研究应用逆向优化算法,突破了传统设计仅能针对规则图形设计的限制,为实现小尺寸、低损耗的光功率分束器提供了一种可行途径....
Saved in:
| Published in | 深圳大学学报(理工版) Vol. 41; no. 5; pp. 532 - 535 |
|---|---|
| Main Authors | , , , , , |
| Format | Journal Article |
| Language | Chinese |
| Published |
深圳大学物理与光电工程学院,深圳市激光工程重点实验室,广东深圳 518060%国防科技大学理学院,材料科学实验中心,湖南长沙 410073%深圳大学生物医学工程学院,广东深圳 518073
01.09.2024
|
| Subjects | |
| Online Access | Get full text |
| ISSN | 1000-2618 |
| DOI | 10.3724/SP.J.1249.2024.05532 |
Cover
| Summary: | O59%O439; 随着信息技术的发展,市场对于更小型化、更高效光器件的需求不断增加.采用互补金属氧化物半导体(complementary metal oxide semiconductor,CMOS)工艺,成功制备了 Si3N4光功率分束器并对其进行测试.结果表明,在1 550nm波长下,边缘优化的1x8功率分束器的总损耗仅为1.30 dB,且其体积相较于传统设计可减小30%.本研究应用逆向优化算法,突破了传统设计仅能针对规则图形设计的限制,为实现小尺寸、低损耗的光功率分束器提供了一种可行途径. |
|---|---|
| ISSN: | 1000-2618 |
| DOI: | 10.3724/SP.J.1249.2024.05532 |