聚硼硅氧烷的合成及其流变性能
O63; 为了探究聚硼硅氧烷(PBDMSs)的物理交联网络结构对体系黏弹性的影响,将不同羟基含量的端羟基聚二甲基硅氧烷(PDMS)分别与硼酸进行反应,制备不同硼化交联密度的PBDMSs,并对合成的PBDMSs的结构、热力学及流变性能进行表征.结果表明:制备的PBDMSs中含有Si—O—Si,Si—O—B,CH3—Si—CH3和B—O—B结构单元;PBDMSs具有优异的耐低温性能,其玻璃化转变温度随着原料PDMS中羟基含量的增加而升高,且当原料PDMS的羟基含量较低时(1%和2%,质量分数),生成物PBDMSs具有一定的结晶能力;PBDMSs具有频率敏感性的特征,并且具有良好的抗冲击能力、优异的...
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| Published in | 材料工程 Vol. 50; no. 6; pp. 164 - 169 |
|---|---|
| Main Authors | , , , |
| Format | Journal Article |
| Language | Chinese |
| Published |
西安匹克玄铠新材料有限公司,西安 710024
20.06.2022
西安理工大学 材料科学与工程学院,西安 710048%西安理工大学 材料科学与工程学院,西安 710048 |
| Subjects | |
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| ISSN | 1001-4381 |
| DOI | 10.11868/j.issn.1001-4381.2020.000253 |
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| Summary: | O63; 为了探究聚硼硅氧烷(PBDMSs)的物理交联网络结构对体系黏弹性的影响,将不同羟基含量的端羟基聚二甲基硅氧烷(PDMS)分别与硼酸进行反应,制备不同硼化交联密度的PBDMSs,并对合成的PBDMSs的结构、热力学及流变性能进行表征.结果表明:制备的PBDMSs中含有Si—O—Si,Si—O—B,CH3—Si—CH3和B—O—B结构单元;PBDMSs具有优异的耐低温性能,其玻璃化转变温度随着原料PDMS中羟基含量的增加而升高,且当原料PDMS的羟基含量较低时(1%和2%,质量分数),生成物PBDMSs具有一定的结晶能力;PBDMSs具有频率敏感性的特征,并且具有良好的抗冲击能力、优异的阻尼耗散能力和出色的回弹性能,原料PDMS的羟基含量影响生成物PBDMSs的物理交联网络结构,进而对PBDMSs的动态模量有显著影响,实际应用时可根据需求改变PDMS的羟基含量来调节PBDMSs的黏弹性. |
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| ISSN: | 1001-4381 |
| DOI: | 10.11868/j.issn.1001-4381.2020.000253 |