柠檬酸钠对电解抛光金属钨的影响

TG175.3; 采用硫酸-甲醇-柠檬酸钠电解液体系对金属钨进行电解抛光.通过改变柠檬酸钠的浓度,采用电子扫描电镜和原子力显微镜分析电解抛光金属钨试样表面的微观形貌和表面粗糙度的变化规律,探究柠檬酸钠在钨电解抛光的作用机理.结果表明,在电解液中柠檬酸钠浓度为0.25 mol/L时试样获得最小的表面粗糙度和较好表面形貌....

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Published in功能材料 Vol. 49; no. 11; pp. 11163 - 11173
Main Authors 刘奉妍, 何代华, 刘平, 刘新宽, 陈小红, 李伟, 张柯, 马凤仓
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 上海理工大学 材料科学与工程学院,上海,200082 30.11.2018
Subjects
钨
微观形貌
电解抛光
柠檬酸钠
粗糙度
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ISSN1001-9731
DOI10.3969/j.issn.1001-9731.2018.11.027

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Summary:TG175.3; 采用硫酸-甲醇-柠檬酸钠电解液体系对金属钨进行电解抛光.通过改变柠檬酸钠的浓度,采用电子扫描电镜和原子力显微镜分析电解抛光金属钨试样表面的微观形貌和表面粗糙度的变化规律,探究柠檬酸钠在钨电解抛光的作用机理.结果表明,在电解液中柠檬酸钠浓度为0.25 mol/L时试样获得最小的表面粗糙度和较好表面形貌.
ISSN:1001-9731
DOI:10.3969/j.issn.1001-9731.2018.11.027