地开石-醋酸铯插层复合物的制备及机理
TB32; 采用机械研磨法制备地开石-醋酸铯插层复合物,利用TG-DTA,FTIR,XRD和FESEM表征并分析该插层复合物的形成过程.XRD结果显示地开石的层间距d(002)由0.72nm增至1.42nm,表明醋酸铯已成功进入地开石层间;FTIR谱显示新增3603cm-1峰表明醋酸根离子与地开石内表面羟基形成氢键,新增3548cm-1峰表明有部分水进入地开石层间;TG-DTA结果分析表明,插层复合物在110℃以下可以稳定存在,脱羟基温度降低180℃;FESEM研究表明:地开石骨架清晰,插层后形貌未发生大的变化.结合理论计算,推断水与醋酸铯分子一起进入地开石层间,与地开石内表面羟基相结合,并建...
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Published in | 材料工程 Vol. 46; no. 7; pp. 76 - 82 |
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Main Authors | , , , |
Format | Journal Article |
Language | Chinese |
Published |
福州大学材料科学与工程学院,福州350108
20.07.2018
福州大学紫金矿业学院,福州350108%福州大学紫金矿业学院,福州,350108%紫金矿业集团国家重点实验室,福建上杭,364200 |
Subjects | |
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ISSN | 1001-4381 |
DOI | 10.11868/j.issn.1001-4381.2017.000535 |
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Summary: | TB32; 采用机械研磨法制备地开石-醋酸铯插层复合物,利用TG-DTA,FTIR,XRD和FESEM表征并分析该插层复合物的形成过程.XRD结果显示地开石的层间距d(002)由0.72nm增至1.42nm,表明醋酸铯已成功进入地开石层间;FTIR谱显示新增3603cm-1峰表明醋酸根离子与地开石内表面羟基形成氢键,新增3548cm-1峰表明有部分水进入地开石层间;TG-DTA结果分析表明,插层复合物在110℃以下可以稳定存在,脱羟基温度降低180℃;FESEM研究表明:地开石骨架清晰,插层后形貌未发生大的变化.结合理论计算,推断水与醋酸铯分子一起进入地开石层间,与地开石内表面羟基相结合,并建立醋酸铯插层地开石的机理模型. |
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ISSN: | 1001-4381 |
DOI: | 10.11868/j.issn.1001-4381.2017.000535 |