磁気免疫染色法に用いるドーム型磁石形状の検討
磁石と抗体標識蛍光磁気ビーズを用いた磁気免疫染色法は,ビーズに内包されたフェライトを磁石により磁化し,組織切片上にすばやく引き付けることで,わずか数分で抗原抗体反応を完了させることができる手法である.しかし,磁石表面が平面だと,磁石中央と磁石端での磁力に不均一性が生じるため,磁石端にビーズが集まりやすくなり,適切な転移診断を行うことができない.そこで,本研究ではビーズを組織切片全体に均一に引き寄せるため,均一な磁力を発生させることができるドーム型の磁石を提案した.数値解析では,磁石に対して,垂直方向と半径方向の磁力(以下,FzとFxとする)を算出した.ドーム形状の評価を行うために,磁石表面の曲...
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Published in | Transactions of Japanese Society for Medical and Biological Engineering Vol. Annual56; no. Abstract; p. S402 |
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Main Authors | , , , , , , , , |
Format | Journal Article |
Language | Japanese |
Published |
公益社団法人 日本生体医工学会
2018
Japanese Society for Medical and Biological Engineering |
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ISSN | 1347-443X 1881-4379 |
DOI | 10.11239/jsmbe.Annual56.S402 |
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Summary: | 磁石と抗体標識蛍光磁気ビーズを用いた磁気免疫染色法は,ビーズに内包されたフェライトを磁石により磁化し,組織切片上にすばやく引き付けることで,わずか数分で抗原抗体反応を完了させることができる手法である.しかし,磁石表面が平面だと,磁石中央と磁石端での磁力に不均一性が生じるため,磁石端にビーズが集まりやすくなり,適切な転移診断を行うことができない.そこで,本研究ではビーズを組織切片全体に均一に引き寄せるため,均一な磁力を発生させることができるドーム型の磁石を提案した.数値解析では,磁石に対して,垂直方向と半径方向の磁力(以下,FzとFxとする)を算出した.ドーム形状の評価を行うために,磁石表面の曲率半径を20mm間隔で35mmから115mmまで変化させ,各磁石での磁力の比較を行った.Fzの均一性の評価には,磁石中心のFzに対するFzの最大変化量,Fxの均一性の評価には,Fxの最大値に対する最小値の変化量を用いた.磁石の半径と高さは,それぞれ18mmと24mmである.解析の結果,同じサイズの円柱磁石では,Fzの最大変化量が約144%,Fxの最小変化量が約6.4%であるのに対し,磁石表面の曲率半径55mmのドーム型磁石では,Fzの最大変化量は約31%であり,それ以外の曲率半径では,47%以上であった.また,Fxの最小変化量は,曲率半径35mmと55mmにおいて,それぞれ約5.3%と約5.7%であった.以上の結果は,曲率半径55mmが最適であることを示した. |
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ISSN: | 1347-443X 1881-4379 |
DOI: | 10.11239/jsmbe.Annual56.S402 |