絶縁性Si3N4セラミックスの放電加工における導電性被膜の形成メカニズムに関する一考察
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| Published in | 電気加工学会誌 Vol. 50; no. 124; pp. 112 - 118 |
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| Main Authors | , , |
| Format | Journal Article |
| Language | Japanese |
| Published |
一般社団法人 電気加工学会
2016
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| Online Access | Get full text |
| ISSN | 0387-754X 1881-0888 |
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| Author | 谷, 貴幸 後藤, 啓光 毛利, 尚武 |
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| References | 2) Naotake Mohri, Yasushi Fukuzawa, Takayuki Tani, Nagao Saito and Katsushi Furutani : Assisting Electrode Method for Machining Insulating Ceramics, Annals of the CIRP, Vol.45, Issue 1 (1996) pp.201-204. 3) Takayuki Tani, Yasushi Fukuzawa, Naotake Mohri, Nagao Saito, Masaaki Okada : Machining phenomena in WEDM of insulating Ceramics, Journal of Materials Processing Technology, Vol.149, Issues 1-3 (2004) pp.124-128. 4) 金子健正，山下健，福澤康：絶縁性AlNセラミックスの微細放電加工特性，精密工学会誌，Vol.79, No.6 (2013) pp.540-546. 5) 金子健正，福澤康，山田隆一：絶縁性SiCセラミックスのワイヤ放電加工特性，電気加工学会誌，Vol.46，No.113 (2012) pp.126-132. 9) 後藤啓光，谷貴幸，毛利尚武：絶縁性Si3N4セラミックスの放電加工メカニズム, 電気加工技術，Vol.34, No.108 (2010) pp.9-14. 1) 福澤康，谷貴幸，岩根英二，毛利尚武：放電加工機を用いた絶縁性材料の加工，電気加工学会誌，Vol.29, No.60 (1995) pp.11-21. 10) 後藤啓光，谷貴幸，毛利尚武：絶縁性Si3N4セラミックスのワイヤ放電加工特性-導電性被膜の形態と加工特性との関係-，電気加工学会誌，Vol.42, No.101 (2008) pp.137-144. 7) 宇野義幸，岡田晃，中西洋人，岡本康寛：単結晶シリコンの放電加工に関する基礎的研究，精密工学誌，Vol.63, No.10 (1997) pp.1459-1463. 6) 中村守，久保勝司，平井幸男：反応焼結炭化ケイ素（RB-SiC）の放電加工，窯業協会誌，Vol.92，No.11 (1984) pp.648-653. 8) 亀山敦史，国枝正典，向後正記：電極間の相対滑りを利用した極低消耗放電加工，電気加工学会全国大会(2008)講演論文集, (2008) pp.9-12. |
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