絶縁性Si3N4セラミックスの放電加工における導電性被膜の形成メカニズムに関する一考察

Saved in:
Bibliographic Details
Published in電気加工学会誌 Vol. 50; no. 124; pp. 112 - 118
Main Authors 谷, 貴幸, 後藤, 啓光, 毛利, 尚武
Format Journal Article
LanguageJapanese
Published 一般社団法人 電気加工学会 2016
Subjects
Online AccessGet full text
ISSN0387-754X
1881-0888
DOI10.2526/jseme.50.112

Cover

More Information
ISSN:0387-754X
1881-0888
DOI:10.2526/jseme.50.112