電子線グラフト重合法を用いた微細構造を有する温度応答性細胞培養膜の作製

近年,培養細胞に生体組織の持つ配向性を付与することが求められている。本研究では,電子線グラフト重合法により得た温度応答性細胞培養膜(n-TRCCM)に対して,フォトリソグラフィープロセスにより作製したLine & Spaceからなる微細構造体のモールドを使い,熱インプリント法によりそのパターンをn-TRCCMに転写することで,微細構造型温度応答性細胞培養膜(p-TRCCM)を作製した。p-TRCCM上における培養実験ではパターンに沿った細胞増殖の確認に成功した。...

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Published inRADIOISOTOPES Vol. 69; no. 4; pp. 129 - 134
Main Authors 大島, 明博, 鷲尾, 方一, 志村, 亮弥, 武岡, 真司, 堀内, 寛仁
Format Journal Article
LanguageJapanese
Published 公益社団法人 日本アイソトープ協会 15.04.2020
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ISSN0033-8303
1884-4111
DOI10.3769/radioisotopes.69.129

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Summary:近年,培養細胞に生体組織の持つ配向性を付与することが求められている。本研究では,電子線グラフト重合法により得た温度応答性細胞培養膜(n-TRCCM)に対して,フォトリソグラフィープロセスにより作製したLine & Spaceからなる微細構造体のモールドを使い,熱インプリント法によりそのパターンをn-TRCCMに転写することで,微細構造型温度応答性細胞培養膜(p-TRCCM)を作製した。p-TRCCM上における培養実験ではパターンに沿った細胞増殖の確認に成功した。
ISSN:0033-8303
1884-4111
DOI:10.3769/radioisotopes.69.129