ジメチルスルフィド分解用NiO/γ-Al2O3触媒の活性サイトの局所構造解析—X線吸収分光分析を用いたNi種の硫化挙動
含浸法により調製したNiO/γ-Al2O3触媒を用いたジメチルスルフィド（以下DMS）の分解反応プロセスにおけるNi種の微細構造変化の検討を行った。調製触媒の焼成および硫化条件が触媒性能に影響を及ぼした。反応前に行う硫化処理として，H2Sで硫化した場合の方がDMSで硫化した場合と比較して分解性能が高くなった。XRD，XPS分析から活性点はNiSであることが類推された。さらに，硫化処理前後のNi種の微細構造変化をin-situ XASにより分析した結果，500 ℃焼成触媒ではNi種がNiOとNiAl2O4として約4 : 6の比で存在しており，硫化処理によって主にNiOがNiSへと硫化され，DMS...
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| Published in | Journal of the Japan Petroleum Institute Vol. 63; no. 6; pp. 365 - 374 |
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| Main Authors | , , , , , , |
| Format | Journal Article |
| Language | English |
| Published |
公益社団法人 石油学会
01.11.2020
|
| Subjects | |
| Online Access | Get full text |
| ISSN | 1346-8804 1349-273X |
| DOI | 10.1627/jpi.63.365 |
Cover
| Abstract | 含浸法により調製したNiO/γ-Al2O3触媒を用いたジメチルスルフィド（以下DMS）の分解反応プロセスにおけるNi種の微細構造変化の検討を行った。調製触媒の焼成および硫化条件が触媒性能に影響を及ぼした。反応前に行う硫化処理として，H2Sで硫化した場合の方がDMSで硫化した場合と比較して分解性能が高くなった。XRD，XPS分析から活性点はNiSであることが類推された。さらに，硫化処理前後のNi種の微細構造変化をin-situ XASにより分析した結果，500 ℃焼成触媒ではNi種がNiOとNiAl2O4として約4 : 6の比で存在しており，硫化処理によって主にNiOがNiSへと硫化され，DMS分解反応の活性点となることが明らかとなった。一方，800 ℃焼成触媒ではNi種がほぼすべてNiAl2O4として存在していた。そのため，硫化後に活性点であるNiS成分の生成量は少なく，800 ℃焼成触媒のDMS分解性能は低かった。 |
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| AbstractList | 含浸法により調製したNiO/γ-Al2O3触媒を用いたジメチルスルフィド（以下DMS）の分解反応プロセスにおけるNi種の微細構造変化の検討を行った。調製触媒の焼成および硫化条件が触媒性能に影響を及ぼした。反応前に行う硫化処理として，H2Sで硫化した場合の方がDMSで硫化した場合と比較して分解性能が高くなった。XRD，XPS分析から活性点はNiSであることが類推された。さらに，硫化処理前後のNi種の微細構造変化をin-situ XASにより分析した結果，500 ℃焼成触媒ではNi種がNiOとNiAl2O4として約4 : 6の比で存在しており，硫化処理によって主にNiOがNiSへと硫化され，DMS分解反応の活性点となることが明らかとなった。一方，800 ℃焼成触媒ではNi種がほぼすべてNiAl2O4として存在していた。そのため，硫化後に活性点であるNiS成分の生成量は少なく，800 ℃焼成触媒のDMS分解性能は低かった。 |
| Author | 霜田, 直宏 中野, 武雄 小出, 奈央 本間, 徹生 脇田, 英延 張, 晋 里川, 重夫 |
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| SourceID | jstage |
| SourceType | Publisher |
| StartPage | 365 |
| SubjectTerms | Active site Dimethyl sulfide decomposition in-situ XAS Nickel alumina catalyst Nickel sulfide Sulfurization behavior |
| Title | ジメチルスルフィド分解用NiO/γ-Al2O3触媒の活性サイトの局所構造解析—X線吸収分光分析を用いたNi種の硫化挙動 |
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| ispartofPNX | Journal of the Japan Petroleum Institute, 2020/11/01, Vol.63(6), pp.365-374 |
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