露出セメント質の表面性状について (その2)

• Published in: 日本歯周病学会会誌 Vol. 33; no. 2; pp. 427 - 432
• Main Authors: 山岡, 昭, 小西, 浩二, 寺西, 義浩, 稲田, 芳樹, 上村, 参生, 神原, 正樹, 中垣, 直毅, 熨斗, 秀光, 上田, 雅俊
• Format: Journal Article
• Language: Japanese
• Published: 特定非営利活動法人 日本歯周病学会 1991; 日本歯周病学会
• Subjects: X線光電子分光分析; X線分析計; スケーリング; ルートプレーニング; 接触角; 露出セメント質
• ISSN: 0385-0110; 1880-408X
• DOI: 10.2329/perio.33.427

露出根面にスケーリング (S群) およびルートプレーニング (R群) を施したものと露出根面 (EC群) および非露出根面 (IC群) を多角的に観察した結果, つぎのような結論を得た。すなわち, X線分析計によるCa, PおよびCa/P比の平均値は, 各数値ともにEC群, S群, R群, IC群の順に数値は低値を示していた。また, 走査型電顕像の, S群では, キュレットタイプスケーラーによる条痕が明白に認められ, それがプレーニングすることにより, その条痕が浅くなる傾向が観察できた。さらに, X線光電子分光分析法による観察における, カルシュウム, リン, 酸素, フッ素, および窒素の相対濃度は, S群とR群とを比較すると, 酸素以外の各成分において, R群が低値を示していた。また, カルシュウム, リンおよびフッ素の結合エネルギーは, 各実験群間ではほとんど差が認められなかった。接触角の観察結果において, S群およびR群は, IC群とほぼ同様の値を示していた。