山本, 博. (2020). 放射光を用いる高エネルギーXPSによる表面ナノ領域の非破壊深さプロファイリング. 分析化学, 69(7.8), 399-409. https://doi.org/10.2116/bunsekikagaku.69.399
Chicago Style (17th ed.) Citation山本, 博之. "放射光を用いる高エネルギーXPSによる表面ナノ領域の非破壊深さプロファイリング." 分析化学 69, no. 7.8 (2020): 399-409. https://doi.org/10.2116/bunsekikagaku.69.399.
MLA (9th ed.) Citation山本, 博之. "放射光を用いる高エネルギーXPSによる表面ナノ領域の非破壊深さプロファイリング." 分析化学, vol. 69, no. 7.8, 2020, pp. 399-409, https://doi.org/10.2116/bunsekikagaku.69.399.
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