放射光を用いる高エネルギーXPSによる表面ナノ領域の非破壊深さプロファイリング

1980年代にナノテクノロジーが材料開発のキーワードとして普及し始めた当初より，すでに年々微細化しつつあった各種材料の分析手法探索とその高精度化は極めて重要な課題であった．この時期に急速に発展した放射光，荷電粒子等のいわゆる量子ビームを励起源として用いる技術はこれらの課題解決に極めて有効である．本論文では，放射光のエネルギー可変性を利用し，通常より高い1.8〜6.0 keVのX線を励起源として用いた高エネルギーX線光電子分光法により新たな非破壊深さ方向分析法を開発したこれまでの著者の研究を中心に，最近の動向を踏まえた視点を加えつつ議論する．...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in分析化学 Vol. 69; no. 7.8; pp. 399 - 409
Main Author 山本, 博之
Format Journal Article
LanguageEnglish
Japanese
Published 公益社団法人 日本分析化学会 05.07.2020
Online AccessGet full text
ISSN0525-1931
DOI10.2116/bunsekikagaku.69.399

Cover

More Information
Summary:1980年代にナノテクノロジーが材料開発のキーワードとして普及し始めた当初より，すでに年々微細化しつつあった各種材料の分析手法探索とその高精度化は極めて重要な課題であった．この時期に急速に発展した放射光，荷電粒子等のいわゆる量子ビームを励起源として用いる技術はこれらの課題解決に極めて有効である．本論文では，放射光のエネルギー可変性を利用し，通常より高い1.8〜6.0 keVのX線を励起源として用いた高エネルギーX線光電子分光法により新たな非破壊深さ方向分析法を開発したこれまでの著者の研究を中心に，最近の動向を踏まえた視点を加えつつ議論する．
ISSN:0525-1931
DOI:10.2116/bunsekikagaku.69.399