シリカ保護膜による金膜の耐久性の向上（2）金膜形成条件の影響

金膜を高周波スパッタリングによるシリカ膜で覆うことで，金膜写真の耐擦過性・耐水性の向上を図った．金微粒子膜の金膜への焼成の条件と，金微粒子調製時の現像条件の調整により金膜の平滑化を図り，膜硬度に与える影響を調べた．膜硬度は鉛筆硬度法で測定した．高温長時間の焼成で膜の平滑性が上昇した．現像液へのアスコルビン酸の添加はより微小な金微粒子を形成し，平滑化に寄与した．シリカ膜で覆った金膜の耐擦過性は，金膜の平滑性にはあまり依存しなかった．一方，水没による膜の劣化に対しては，平滑性の高い膜ほど強い強度を示した．適切な膜形成により，金膜写真の耐久性が向上した．...

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Bibliographic Details
Published in日本写真学会誌 Vol. 81; no. 2; pp. 118 - 123
Main Authors 川崎, 三津夫, 熊谷, 遼太, 久下, 謙一
Format Journal Article
LanguageJapanese
Published 社団法人 日本写真学会 2018
Subjects
シリカスパッタリング
画像耐久性
金膜写真
鉛筆硬度法
銀塩写真感光材料
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ISSN0369-5662
1884-5932
DOI10.11454/photogrst.81.118

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Summary:金膜を高周波スパッタリングによるシリカ膜で覆うことで，金膜写真の耐擦過性・耐水性の向上を図った．金微粒子膜の金膜への焼成の条件と，金微粒子調製時の現像条件の調整により金膜の平滑化を図り，膜硬度に与える影響を調べた．膜硬度は鉛筆硬度法で測定した．高温長時間の焼成で膜の平滑性が上昇した．現像液へのアスコルビン酸の添加はより微小な金微粒子を形成し，平滑化に寄与した．シリカ膜で覆った金膜の耐擦過性は，金膜の平滑性にはあまり依存しなかった．一方，水没による膜の劣化に対しては，平滑性の高い膜ほど強い強度を示した．適切な膜形成により，金膜写真の耐久性が向上した．
ISSN:0369-5662
1884-5932
DOI:10.11454/photogrst.81.118