Flow Instability in Metallic Melt of Silicon
近年, 画像情報等の処理のために大容量高速の半導体メモリーに対する期待が大きくなってきている. このギガビットメモリーの実現を支えるシリコン単結晶は, 液体金属シリコン結晶を固化して得ることが可能である. この結晶の育成中に生じる液体金属シリコンの対流の不安定は結晶中の不純物分布に大きく影響をするため, その対流を理解し制御することが必要である. ここでは, 実際の液体シリコンの系の流れ場に対して, X線透視法を用いた可視化実験と数値計算, および線形安定理論による流れ場の安定解析結果等を紹介し, 最後に今後の課題等について紹介する....
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| Published in | Butsuri Vol. 52; no. 2; pp. 90 - 96 |
|---|---|
| Main Author | |
| Format | Journal Article |
| Language | Japanese |
| Published |
The Physical Society of Japan
1997
一般社団法人 日本物理学会 |
| Online Access | Get full text |
| ISSN | 0029-0181 2423-8872 |
| DOI | 10.11316/butsuri1946.52.90 |
Cover
| Abstract | 近年, 画像情報等の処理のために大容量高速の半導体メモリーに対する期待が大きくなってきている. このギガビットメモリーの実現を支えるシリコン単結晶は, 液体金属シリコン結晶を固化して得ることが可能である. この結晶の育成中に生じる液体金属シリコンの対流の不安定は結晶中の不純物分布に大きく影響をするため, その対流を理解し制御することが必要である. ここでは, 実際の液体シリコンの系の流れ場に対して, X線透視法を用いた可視化実験と数値計算, および線形安定理論による流れ場の安定解析結果等を紹介し, 最後に今後の課題等について紹介する. |
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| AbstractList | 近年, 画像情報等の処理のために大容量高速の半導体メモリーに対する期待が大きくなってきている. このギガビットメモリーの実現を支えるシリコン単結晶は, 液体金属シリコン結晶を固化して得ることが可能である. この結晶の育成中に生じる液体金属シリコンの対流の不安定は結晶中の不純物分布に大きく影響をするため, その対流を理解し制御することが必要である. ここでは, 実際の液体シリコンの系の流れ場に対して, X線透視法を用いた可視化実験と数値計算, および線形安定理論による流れ場の安定解析結果等を紹介し, 最後に今後の課題等について紹介する. |
| Author | Kakimoto, Koichi |
| Author_FL | 柿本 浩一 |
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| DocumentTitleAlternate | 液体金属シリコンの対流不安定性 |
| DocumentTitle_FL | 液体金属シリコンの対流不安定性 |
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| References | 18) W.E. Langlois: Annu. Rev. Fluid Mech. (1985) 191-Buoyancy-driven flows in crystal growth melts. 2) H.J.A. van Dijk, C.M.G. Jochern, G.J. Scholl and P. van der Werf: J. Crystal Growth 21 (1974) 310. 7) 柿本浩一,李京雨:伝熱研究33 (1995) 36. 17) P.A. Ramachandran and M.P. Dudukovic: J. Cryst. Gorwth 71 (1985) 399. 19) K. Kakimoto and K.-W. Yi: Physica B 216 (1996) 406. 20) T. Miyano, H. Morita, A. Shintani, T. Kanda and M. Hourai: J. Appl. Phys. 76 (1994) 2681. 3) K. Kakimoto, M. Eguchi, H. Watanabe and T. Hibiya: J. Cryst. Growth 88 (1988) 365. 14) K. Kakimoto: Prog. Cryst. Growth and Charact. 30 (1995) 191. 11) K.-W. Yi, V.B. Booker, M. Eguchi, T. Shyo and K. Kakimoto: J. Cryst. Growth 156 (1995) 383. 8) 山岸浩利,布施川泉:日本結晶成長学会誌17 (1990) 304. 1) V.M. Glazov, S.N. Chizhevskaya and N.N. Glagoleva: Liquid Semiconductors (Plenum Press, 1969) p. 61. 5) D.A. Anderson, J.C. Turnnehill and R.H. Pletcher: Computational Fluid Mechanics and Heat Transfer (Hemisphere Publishing, 1984) p. 63. 6) 白山晋,桑原邦郎:日本物理学会誌45 (1990) 483. 16) R. Hide: Phys. Fluid 10 (1967) 56. 12) J.R.A. Pearson: J. Fluid Mech. 4 (1958) 489. 13) K. Kakimoto: J. Appl. Phys. 77 (1995) 1827. 15) P.C. Drazin and W.H. Reid: Hydrodynamic Stability (Cambridge Univ. Press, 1981) p. 333. 4) 庄俊之:日本大学修士論文,1994, p. 85. 10) S. Chandrasekhar: Hydrodynamic and Hydromagnetic Stability (Clarendon Press, 1961) p. 22. 9) K.-W. Yi, K. Kakimoto, M. Eguchi, M. Watanabe, T. Shyo and T. Hibiya: J. Cryst. Growth 144 (1994) 20. |
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