Příprava struktur přes masku z polymerního rezistu

• Main Author: Dvořák, Zdeněk (Dissertant)
• Other Authors: Urbánek, Michal (Thesis advisor)
• Format: Manuscript
• Language: Czech
• Published: 2024
• Subjects: litografické techniky; elektronová litografie; lift-off proces; polymerní rezist; lithographic techniques; electron-beam lithography; lift-off process; polymer resist; bakalářská práce
• Physical Description: 62 s.