Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem

Saved in:

Bibliographic Details
Main Author	Navrátil, Jaroslav (Dissertant)
Other Authors	Urbánek, Michal (Thesis advisor)
Format	Manuscript Book
Language	Czech
Published	2022
Subjects	Elektronová litografie polymerní rezist proces vyvolání optická mikroskopie mechanická profilometrie Sigma Aldrich fotorezist KMPR 1010 Electron beam lithography polymer resist process of resist development optical microscopy mechanical profilometry Sigma Aldrich photoresist diplomová práce
Online Access	Plný text v Digitální knihovně UTB
Physical Description	88 s.

Online Access

Plný text v Digitální knihovně UTB