Staff View: Využití polymerních rezistů pro přípravu mikro a nanostruktur pomocí elektronové litografie

Využití polymerních rezistů pro přípravu mikro a nanostruktur pomocí elektronové litografie

Saved in:

Bibliographic Details
Main Author:	Navrátil, Jaroslav (Dissertant)
Other Authors:	Urbánek, Michal (Thesis advisor)
Format:	Manuscript
Language:	Czech
Published:	2020
Subjects:	Elektronová litografie polymerní rezist proces vyvolání kontrast rezistu optická mikroskopie mechanická profilometrie AFM Electron-beam lithography polymer resist process of resist development contrast of resist optical microscopy mechanical profilometry bakalářská práce
Physical Description:	56 s.


LEADER	01498ntm a22004097u 4500
001	zp55935
041			\|a cze
100	1		\|a Navrátil, Jaroslav \|4 dis
245	1	0	\|a Využití polymerních rezistů pro přípravu mikro a nanostruktur pomocí elektronové litografie
246			\|a Application of Polymers for Electron Beam Lithography
260			\|c 2020
300			\|a 56 s.
500			\|a Studijní obor: Materiálové inženýrství
500			\|a Studijní obor: Materials Engineering
500			\|a Ústav: Ústav fyziky a mater. inženýrství
500			\|a Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně. Fakulta technologická
500			\|a Tomas Bata University in Zlín. Faculty of Technology
506			\|a Bez omezení
653			\|a Elektronová litografie
653			\|a polymerní rezist
653			\|a proces vyvolání
653			\|a kontrast rezistu
653			\|a optická mikroskopie
653			\|a mechanická profilometrie
653			\|a AFM
653			\|a Electron-beam lithography
653			\|a polymer resist
653			\|a process of resist development
653			\|a contrast of resist
653			\|a optical microscopy
653			\|a mechanical profilometry
653			\|a AFM
655		4	\|a bakalářská práce
700	1		\|a Urbánek, Michal \|4 ths
710	2		\|a Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně. Fakulta technologická \|4 dgg
710	2		\|a Tomas Bata University in Zlín. Faculty of Technology \|4 dgg
856	4	0	\|u http://hdl.handle.net/10563/49042 \|y Plný text v Digitální knihovně UTB