杨玉青, 雷轶松, 向勇军, 李刚, 熊晓玲, 徐建, & 董文丽. (2021). 单晶硅表面钝化层在低能电子辐照前后的SIMS和XPS分析. 核化学与放射化学, 43(1), 74-80. https://doi.org/10.7538/hhx.2020.YX.2019085
Chicago Style (17th ed.) Citation杨玉青, 雷轶松, 向勇军, 李刚, 熊晓玲, 徐建, and 董文丽. "单晶硅表面钝化层在低能电子辐照前后的SIMS和XPS分析." 核化学与放射化学 43, no. 1 (2021): 74-80. https://doi.org/10.7538/hhx.2020.YX.2019085.
MLA (9th ed.) Citation杨玉青, et al. "单晶硅表面钝化层在低能电子辐照前后的SIMS和XPS分析." 核化学与放射化学, vol. 43, no. 1, 2021, pp. 74-80, https://doi.org/10.7538/hhx.2020.YX.2019085.
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