甲酸钾抑制蒙脱石水化机理的分子动力学模拟
TE254; 在盐膏地层或者泥页岩地层钻井过程中,钻遇的地层含有大量的蒙脱石,蒙脱石是典型的水化膨胀性矿物,当钻井液滤液进入蒙脱石含量较高的地层会因水化膨胀作用导致井壁失稳,发生卡钻、井眼缩径、井塌等井下复杂事故.有机盐钻井液的主要成分是含有抑制作用强的甲酸钾,成为目前钻复杂井段的重要水基钻井液体系.为了深入揭示有机盐钻井液中的主要抑制剂甲酸钾抑制蒙脱石水化的机理,采用分子动力学的方法,从分子角度研究其抑制机理.通过建立甲酸钾和蒙脱石的模型,计算两者的相互作用.研究发现在甲酸钾溶液中,电离出的甲酸根主要偏向作用于层间水,且能与水分子形成氢键,电离出的钾离子会吸附在蒙脱石表面,与蒙脱石表面作用,...
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Published in | 钻井液与完井液 Vol. 39; no. 4; pp. 415 - 422 |
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Main Authors | , , , , , |
Format | Journal Article |
Language | Chinese |
Published |
油气钻采工程湖北省重点实验室, 武汉 430100
01.07.2022
长江大学石油工程学院, 武汉430100%长江大学石油工程学院, 武汉430100 油气钻井技术国家工程实验室防漏堵漏技术研究室, 武汉 430100 |
Subjects | |
Online Access | Get full text |
ISSN | 1001-5620 |
DOI | 10.12358/j.issn.1001-5620.2022.04.003 |
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Abstract | TE254; 在盐膏地层或者泥页岩地层钻井过程中,钻遇的地层含有大量的蒙脱石,蒙脱石是典型的水化膨胀性矿物,当钻井液滤液进入蒙脱石含量较高的地层会因水化膨胀作用导致井壁失稳,发生卡钻、井眼缩径、井塌等井下复杂事故.有机盐钻井液的主要成分是含有抑制作用强的甲酸钾,成为目前钻复杂井段的重要水基钻井液体系.为了深入揭示有机盐钻井液中的主要抑制剂甲酸钾抑制蒙脱石水化的机理,采用分子动力学的方法,从分子角度研究其抑制机理.通过建立甲酸钾和蒙脱石的模型,计算两者的相互作用.研究发现在甲酸钾溶液中,电离出的甲酸根主要偏向作用于层间水,且能与水分子形成氢键,电离出的钾离子会吸附在蒙脱石表面,与蒙脱石表面作用,降低蒙脱石的Zeta电位,当质量分数大于一定量时,钾离子对蒙脱石表面作用饱和并开始向层间扩散.通过模拟发现,低浓度的甲酸钾有利于蒙脱石力学性质稳定,随着其浓度继续增加,有利于抑制水分子扩散,而蒙脱石的杨氏模量、剪切模量略微降低,泊松比上升,当浓度大于一定量后,其抑制性趋于稳定,蒙脱石力学性质趋于稳定.模拟认为钻井液中甲酸钾最佳质量分数(相对于水)范围应在32.57%~34.92%. |
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AbstractList | TE254; 在盐膏地层或者泥页岩地层钻井过程中,钻遇的地层含有大量的蒙脱石,蒙脱石是典型的水化膨胀性矿物,当钻井液滤液进入蒙脱石含量较高的地层会因水化膨胀作用导致井壁失稳,发生卡钻、井眼缩径、井塌等井下复杂事故.有机盐钻井液的主要成分是含有抑制作用强的甲酸钾,成为目前钻复杂井段的重要水基钻井液体系.为了深入揭示有机盐钻井液中的主要抑制剂甲酸钾抑制蒙脱石水化的机理,采用分子动力学的方法,从分子角度研究其抑制机理.通过建立甲酸钾和蒙脱石的模型,计算两者的相互作用.研究发现在甲酸钾溶液中,电离出的甲酸根主要偏向作用于层间水,且能与水分子形成氢键,电离出的钾离子会吸附在蒙脱石表面,与蒙脱石表面作用,降低蒙脱石的Zeta电位,当质量分数大于一定量时,钾离子对蒙脱石表面作用饱和并开始向层间扩散.通过模拟发现,低浓度的甲酸钾有利于蒙脱石力学性质稳定,随着其浓度继续增加,有利于抑制水分子扩散,而蒙脱石的杨氏模量、剪切模量略微降低,泊松比上升,当浓度大于一定量后,其抑制性趋于稳定,蒙脱石力学性质趋于稳定.模拟认为钻井液中甲酸钾最佳质量分数(相对于水)范围应在32.57%~34.92%. |
Author | 刘星雨 谷文 马超 谢龙龙 任文东 陈妍 |
AuthorAffiliation | 长江大学石油工程学院, 武汉430100%长江大学石油工程学院, 武汉430100;油气钻采工程湖北省重点实验室, 武汉 430100;油气钻井技术国家工程实验室防漏堵漏技术研究室, 武汉 430100 |
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Issue | 4 |
Keywords | 蒙脱石水化 甲酸钾 分子动力学模拟 有机盐钻井液 |
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PublicationTitle | 钻井液与完井液 |
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Publisher | 油气钻采工程湖北省重点实验室, 武汉 430100 长江大学石油工程学院, 武汉430100%长江大学石油工程学院, 武汉430100 油气钻井技术国家工程实验室防漏堵漏技术研究室, 武汉 430100 |
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