基于膜吸收法处理实际高浓度蚀刻废液的研究

X703; 为实现对印刷线路板生产领域高浓度蚀刻废液的高效处理,建立了"膜吸收+Na2S破络+PAC混凝沉淀"工艺,考察其对实际高氨氮蚀刻废液的脱氨除铜效能,并优化了工艺条件.通过单因素实验探究了料液pH和流速、吸收液浓度和流速、膜组件级数与温度等因素对NH4+-N去除率、传质系数和过膜通量的影响,并确定了最佳运行参数:料液pH=10.5、流速3.6 cm/s,吸收液浓度2.0 mol/L、流速1.1 cm/s,膜组件级数为18级,温度为40℃.在该最佳运行条件下,蚀刻废液NH4+-N可由82000 mg/L降至100 mg/L左右,去除率保持在99.8%以上,膜传质系数为...

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Published in工业水处理 Vol. 43; no. 2; pp. 111 - 117
Main Authors 刘华光, 任亚涛, 赵子龙, 王宏杰, 董文艺, 侯惠惠
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 深圳市水资源利用与环境污染控制重点实验室,广东深圳 518055%哈尔滨工业大学(深圳)土木与环境工程学院,广东深圳 518055 01.02.2023
深圳市水资源利用与环境污染控制重点实验室,广东深圳 518055
城市水资源与水环境国家重点实验室,哈尔滨工业大学环境学院,黑龙江哈尔滨 150090
哈尔滨工业大学(深圳)土木与环境工程学院,广东深圳 518055%哈尔滨工业大学(深圳)土木与环境工程学院,广东深圳 518055
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ISSN1005-829X
DOI10.19965/j.cnki.iwt.2022-0366

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Summary:X703; 为实现对印刷线路板生产领域高浓度蚀刻废液的高效处理,建立了"膜吸收+Na2S破络+PAC混凝沉淀"工艺,考察其对实际高氨氮蚀刻废液的脱氨除铜效能,并优化了工艺条件.通过单因素实验探究了料液pH和流速、吸收液浓度和流速、膜组件级数与温度等因素对NH4+-N去除率、传质系数和过膜通量的影响,并确定了最佳运行参数:料液pH=10.5、流速3.6 cm/s,吸收液浓度2.0 mol/L、流速1.1 cm/s,膜组件级数为18级,温度为40℃.在该最佳运行条件下,蚀刻废液NH4+-N可由82000 mg/L降至100 mg/L左右,去除率保持在99.8%以上,膜传质系数为3.38×10-6 m/s,过膜通量为40.7 mg/(m2·s).同时对Na2S破络及混凝沉淀工艺条件进行了优化,以n(S2-)/n(Cu2+)=1.4投加Na2S对铜氨络合物进行破络,并投加150 mg/L PAC进行混凝沉淀,可将出水铜质量浓度控制在0.5 mg/L以下.重复实验结果表明,膜吸收法长期运行效能稳定,对印刷线路板高氨氮生产废水处理具有很好的适用性,是解决高浓度蚀刻废液污染问题的有效技术途径之一.
ISSN:1005-829X
DOI:10.19965/j.cnki.iwt.2022-0366