基于自适应非线性粒子群算法的光刻光源优化方法 - 王建; 刘俊伯; 胡松 (光电工程, 2021)
TP391; 光刻光源优化作为必不可少的分辨率增强技术之一,能够提高先进光刻成像质量.在先进光刻领域,光源优化的收敛效率和优化能力是至关重要的.粒子群优化算法作为一种全局优化算法,自适应控制策略可以提高粒子的全局搜索能力,非线性控制策略可以扩大粒子搜索范围.本文提出一种基于自适应非线性控制策略的粒子群优化算法,将光刻光源优化问题转换成多变量评价函数求解.对简单周期光栅图形和不规则图形进行成像优化仿真,通过粒子群优化算法的全局迭代特性优化光源形貌.利用图形误差(PEs)作为多变量评价函数,对迭代300次的仿真结果进行评价,两种仿真图形的PEs分别降低52.2％和35％.与传统粒子群优化算法和遗传算法相比,该方法不仅能提高成像质量,而且具有更高的收敛效率.