基于自适应非线性粒子群算法的光刻光源优化方法

TP391; 光刻光源优化作为必不可少的分辨率增强技术之一,能够提高先进光刻成像质量.在先进光刻领域,光源优化的收敛效率和优化能力是至关重要的.粒子群优化算法作为一种全局优化算法,自适应控制策略可以提高粒子的全局搜索能力,非线性控制策略可以扩大粒子搜索范围.本文提出一种基于自适应非线性控制策略的粒子群优化算法,将光刻光源优化问题转换成多变量评价函数求解.对简单周期光栅图形和不规则图形进行成像优化仿真,通过粒子群优化算法的全局迭代特性优化光源形貌.利用图形误差(PEs)作为多变量评价函数,对迭代300次的仿真结果进行评价,两种仿真图形的PEs分别降低52.2％和35％.与传统粒子群优化算法和遗传...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in光电工程 Vol. 48; no. 9; pp. 49 - 56
Main Authors 王建, 刘俊伯, 胡松
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 中国科学院光电技术研究所,四川 成都 610209 15.09.2021
中国科学院大学,北京 100049%中国科学院光电技术研究所,四川 成都 610209
Subjects
光源优化;光刻;分辨率增强技术;粒子群优化算法
Online AccessGet full text
ISSN1003-501X
DOI10.12086/oee.2021.210167

Cover

More Information
Summary:TP391; 光刻光源优化作为必不可少的分辨率增强技术之一,能够提高先进光刻成像质量.在先进光刻领域,光源优化的收敛效率和优化能力是至关重要的.粒子群优化算法作为一种全局优化算法,自适应控制策略可以提高粒子的全局搜索能力,非线性控制策略可以扩大粒子搜索范围.本文提出一种基于自适应非线性控制策略的粒子群优化算法,将光刻光源优化问题转换成多变量评价函数求解.对简单周期光栅图形和不规则图形进行成像优化仿真,通过粒子群优化算法的全局迭代特性优化光源形貌.利用图形误差(PEs)作为多变量评价函数,对迭代300次的仿真结果进行评价,两种仿真图形的PEs分别降低52.2％和35％.与传统粒子群优化算法和遗传算法相比,该方法不仅能提高成像质量,而且具有更高的收敛效率.
ISSN:1003-501X
DOI:10.12086/oee.2021.210167