超高精度面形干涉检测技术进展

TN247%TH741; 深紫外、极紫外光刻、先进光源等现代光学工程牵引驱动超精密光学技术持续发展,超精密光学制造要求与之精度相匹配的超高精度检测技术.作为核心技术指标之一的面形精度通常要求达到纳米、深亚纳米甚至几十皮米量级,超高精度面形干涉检测技术挑战技术极限,具有重要研究意义和应用价值.本文分析了面形干涉检测技术发展趋势,主要介绍了中国科学院光电技术研究所近年来在超高精度面形干涉检测技术相关研究进展....

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published inGuang Dian Gong Cheng = Opto-Electronic Engineering Vol. 47; no. 8; pp. 200209 - 26
Main Authors 侯溪, 张帅, 胡小川, 全海洋, 吴高峰, 贾辛, 何一苇, 陈强, 伍凡 / Hou Xi, Zhang, Shuai, Hu Xiaochuan, Quan Haiyang, Wu Gaofeng, Jia Xin, He, Yiwei, Chen, Qiang, Wu, Fan
Format Journal Article
LanguageChinese
English
Published Chengdu Editorial Office of Opto-Electronic Advances 15.08.2020
中国科学院大学,北京 100049
中国科学院光电技术研究所,四川 成都 610209%中国科学院光电技术研究所,四川 成都 610209
Subjects
Accuracy
Calibration
Engineering
Interferometry
Lasers
Light sources
Manufacturing
Measurement techniques
Optics
R&D
Research & development
Beijing China
China
面形检测
先进光学制造
超精密光学
光学测量
干涉检测
绝对检测
Online AccessGet full text
ISSN1003-501X
DOI10.12086/oee.2020.200209

Cover

More Information
Summary:TN247%TH741; 深紫外、极紫外光刻、先进光源等现代光学工程牵引驱动超精密光学技术持续发展,超精密光学制造要求与之精度相匹配的超高精度检测技术.作为核心技术指标之一的面形精度通常要求达到纳米、深亚纳米甚至几十皮米量级,超高精度面形干涉检测技术挑战技术极限,具有重要研究意义和应用价值.本文分析了面形干涉检测技术发展趋势,主要介绍了中国科学院光电技术研究所近年来在超高精度面形干涉检测技术相关研究进展.
Bibliography:ObjectType-Article-1
SourceType-Scholarly Journals-1
ObjectType-Feature-2
content type line 14
ISSN:1003-501X
DOI:10.12086/oee.2020.200209