コーティング層と下地高分子の間の界面層の厚さのだ円偏光解析法による測定 - 加藤, 敏文; 三宅, 英司; 高橋, 彰; 川口, 正美 (高分子論文集, 1981)
だ (楕) 円偏光解析法によりポリスチレン板の上にポリ塩化ビニルあるいはポリブタジエンの溶液をコーティングし, そのコーティングした層と下地のポリスチレンの間の界面層の厚さと屈折率を測定した. 界面層の厚さはポリ塩化ビニルとポリスチレンの系およびポリブタジエンとポリスチレンの系において, コーティングした高分子の非摂動状態の広がり, 21/2の2倍程度で, その分子量とともに増加し, 下地のポリスチレンの分子量によらないことがわかった. 界面層の屈折率は, コーティング層の分子量の増加とともに増加することがわかった.