2種混合砥粒研磨法を用いたガラス基板研磨加工による表面粗さ改善速度の向上
本研究は,ガラス基板研磨における高コストなダイヤモンド砥粒の消費量を削減し,コスト低減と表面粗さの早期改善を目的として低硬度な砥粒とダイヤモンド砥粒を混合した,2種混合砥粒による研磨手法の開発を行った.低硬度砥粒としてGC砥粒の大きさの影響(約127 μm, 75 μmおよび13 μm),砥粒濃度の影響,砥粒種類の影響(WAおよびB4C)を明らかにした.また,砥粒の研磨面内の挙動をその場観察するため,砥粒をロ-ダミンにより蛍光染色して観察を行った.その結果,2種混合砥粒によって表面粗さの低減速度の向上に成功した.また,粒径の大きなGC砥粒は研磨に用いた天然シルク研磨パッドの繊維のすき間に移動あ...
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| Published in | 砥粒加工学会誌 Vol. 64; no. 8; pp. 428 - 435 |
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| Main Authors | , , , , |
| Format | Journal Article |
| Language | Japanese |
| Published |
社団法人 砥粒加工学会
01.08.2020
|
| Online Access | Get full text |
| ISSN | 0914-2703 1880-7534 |
| DOI | 10.11420/jsat.64.428 |
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| Abstract | 本研究は,ガラス基板研磨における高コストなダイヤモンド砥粒の消費量を削減し,コスト低減と表面粗さの早期改善を目的として低硬度な砥粒とダイヤモンド砥粒を混合した,2種混合砥粒による研磨手法の開発を行った.低硬度砥粒としてGC砥粒の大きさの影響(約127 μm, 75 μmおよび13 μm),砥粒濃度の影響,砥粒種類の影響(WAおよびB4C)を明らかにした.また,砥粒の研磨面内の挙動をその場観察するため,砥粒をロ-ダミンにより蛍光染色して観察を行った.その結果,2種混合砥粒によって表面粗さの低減速度の向上に成功した.また,粒径の大きなGC砥粒は研磨に用いた天然シルク研磨パッドの繊維のすき間に移動あるいは挟みこまれる様子が観察された.一方,平均粒径1.0 μmのダイヤモンド砥粒は天然シルク研磨パッドとガラス基板間を繊維の向きとは無関係に移動している様子が観察された. |
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| AbstractList | 本研究は,ガラス基板研磨における高コストなダイヤモンド砥粒の消費量を削減し,コスト低減と表面粗さの早期改善を目的として低硬度な砥粒とダイヤモンド砥粒を混合した,2種混合砥粒による研磨手法の開発を行った.低硬度砥粒としてGC砥粒の大きさの影響(約127 μm, 75 μmおよび13 μm),砥粒濃度の影響,砥粒種類の影響(WAおよびB4C)を明らかにした.また,砥粒の研磨面内の挙動をその場観察するため,砥粒をロ-ダミンにより蛍光染色して観察を行った.その結果,2種混合砥粒によって表面粗さの低減速度の向上に成功した.また,粒径の大きなGC砥粒は研磨に用いた天然シルク研磨パッドの繊維のすき間に移動あるいは挟みこまれる様子が観察された.一方,平均粒径1.0 μmのダイヤモンド砥粒は天然シルク研磨パッドとガラス基板間を繊維の向きとは無関係に移動している様子が観察された. |
| Author | 梅原, 徳次 野老山, 貴行 千葉, 翔悟 嶽野, 広明 村島, 基之 |
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| Copyright | 2020 社団法人 砥粒加工学会 |
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| DOI | 10.11420/jsat.64.428 |
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| References | 7) F.W. Preston: The theory and design of plate glass polishing machines, Journal of the Society of Glass Technology, 11 (1927) 214. 6) R. RENTSCH and I. INASAKI: Investigation of surface integrity by molecular dynamics simulation for abrasive processes, CIRP Annals, 44, 1 (1995) 295.10.1016/S0007-8506(07)62329-4 8) 大坪 正徳,瀬下 清,山崎 努,西澤 秀明,村上 幸,宮下 忠一,高木 正孝,土肥 俊郎:グリ-ンデバイス用結晶基板の加工プロセス技術の研究開発(第7報),2015年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集,(2015)535.10.11522/pscjspe.2015S.0_535 16) O.K. HSU, J.K. VANGSNESS, S.C. BILLINGS and D.S. GILBRIDE: Polishing pads useful in chemical mechanical polishing of substrates in the presence of a slurry containing abrasive particles, U.S. Patent (2003) 6656018B1. 14) 泉谷徹郎:光学ガラス,共立出版社,(1987) 114. 10) M. IMAJO, K. NAGAYAMA, K. KIMURA and Y. HASHIYAMA: The Analysis of Slurry Flow on Quartz Glass Polishing, Precision Engineering, 76, 4 (2010) 458 (in Japanese).10.2493/jjspe.76.458 15) S. HAGIWARA, T. OBIKAWA and E. USUI: Evaluation of Edge Fracture Characteristics of Abrasive Grain Materials, Precision Engineering, 55, 3 (1989) 551 (in Japanese).10.2493/jjspe.55.551 13) L. WONG, T. SURATWALA, M.D. FEIT, P.E. MILLER and R. STEELE: The effect of HF/NH4F etching on the morphology of surface fractures on fused silica, Journal of Non-Crystalline Solids, 355 (2009) 797.10.1016/j.jnoncrysol.2009.01.037 11) S. CHIBA, T. IGAMI and T. TOKOROYAMA: The in-situ observation of contact point under boundary lubrication condition with imitation wear particle, Journal of Material Testing Research Association,63, 1 (2018) 1 (in Japanese). 3) J. MURATA, Y. UENO, K. YODOGAWA and T. SUGIURA: Polymer/CeO2-Fe3O4 multicomponent core-shell particles for high-efficiency magnetic-field-assisted polishing processes, International Journal of Machine Tools & Manufacture, 101 (2016) 28.10.1016/j.ijmachtools.2015.11.004 4) S. CHIBA, T. KUSUMI, Y. AKAGAMI, T. TOKOROYAMA, and M. MURAOKA: Damage-less mechanical polishing technique for advanced crystal substrates using a resin pad and electric field-assisted polishing, Journal of the Japan Society for Abrasive Technology, 64, 1 (2020) 32 (in Japanese). 2) H. IKEDA and Y. AKAGAMI: Highly efficient polishing technology for glass substrates using tribo-chemical polishing with electrically controlled slurry, Journal of Manufacturing Processes, 15 (2013) 102.10.1016/j.jmapro.2012.11.002 5) H.S. LEE, D.I. KIM, J.H. AN, H.J. LEE, K.H. KIM, and H. JEONG: Hybrid polishing mechanism of single crystal SiC using mixed abrasive slurry (MAS), CIRP Annals, 59, 1 (2010) 333.10.1016/j.cirp.2010.03.114 9) Y. HASHIYAMA, K. KIMURA and P. KHAJORNRUNGRUANG: Study on slurry flow in quadrilateral silica glass polishing, Journal of the Japan Society for Abrasive Technology, 53, 9 (2009) 578 (in Japanese).10.11420/jsat.53.578 12) 関口 麗,吉川 竣,柿沼 康弘,田中 克敏,福田 将彦:ガラス研削加工におけるサブサ-フェスダメ-ジのエッチング評価法,2015年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集,(2015) 829.10.11522/pscjspe.2015S.0_829 1) T. HOSHINO, Y. KURATA, Y. TERASAKI and K. SUSA: Mechanism of polishing of SiO2 films by CeO2 particles, Journal of Non-Crystalline Solids, 283 (2001) 129.10.1016/S0022-3093(01)00364-7 |
| References_xml | – reference: 8) 大坪 正徳,瀬下 清,山崎 努,西澤 秀明,村上 幸,宮下 忠一,高木 正孝,土肥 俊郎:グリ-ンデバイス用結晶基板の加工プロセス技術の研究開発(第7報),2015年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集,(2015)535.10.11522/pscjspe.2015S.0_535 – reference: 7) F.W. Preston: The theory and design of plate glass polishing machines, Journal of the Society of Glass Technology, 11 (1927) 214. – reference: 3) J. MURATA, Y. UENO, K. YODOGAWA and T. SUGIURA: Polymer/CeO2-Fe3O4 multicomponent core-shell particles for high-efficiency magnetic-field-assisted polishing processes, International Journal of Machine Tools & Manufacture, 101 (2016) 28.10.1016/j.ijmachtools.2015.11.004 – reference: 2) H. IKEDA and Y. AKAGAMI: Highly efficient polishing technology for glass substrates using tribo-chemical polishing with electrically controlled slurry, Journal of Manufacturing Processes, 15 (2013) 102.10.1016/j.jmapro.2012.11.002 – reference: 5) H.S. LEE, D.I. KIM, J.H. AN, H.J. LEE, K.H. KIM, and H. JEONG: Hybrid polishing mechanism of single crystal SiC using mixed abrasive slurry (MAS), CIRP Annals, 59, 1 (2010) 333.10.1016/j.cirp.2010.03.114 – reference: 15) S. HAGIWARA, T. OBIKAWA and E. USUI: Evaluation of Edge Fracture Characteristics of Abrasive Grain Materials, Precision Engineering, 55, 3 (1989) 551 (in Japanese).10.2493/jjspe.55.551 – reference: 6) R. RENTSCH and I. INASAKI: Investigation of surface integrity by molecular dynamics simulation for abrasive processes, CIRP Annals, 44, 1 (1995) 295.10.1016/S0007-8506(07)62329-4 – reference: 9) Y. HASHIYAMA, K. KIMURA and P. KHAJORNRUNGRUANG: Study on slurry flow in quadrilateral silica glass polishing, Journal of the Japan Society for Abrasive Technology, 53, 9 (2009) 578 (in Japanese).10.11420/jsat.53.578 – reference: 12) 関口 麗,吉川 竣,柿沼 康弘,田中 克敏,福田 将彦:ガラス研削加工におけるサブサ-フェスダメ-ジのエッチング評価法,2015年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集,(2015) 829.10.11522/pscjspe.2015S.0_829 – reference: 1) T. HOSHINO, Y. KURATA, Y. TERASAKI and K. SUSA: Mechanism of polishing of SiO2 films by CeO2 particles, Journal of Non-Crystalline Solids, 283 (2001) 129.10.1016/S0022-3093(01)00364-7 – reference: 16) O.K. HSU, J.K. VANGSNESS, S.C. BILLINGS and D.S. GILBRIDE: Polishing pads useful in chemical mechanical polishing of substrates in the presence of a slurry containing abrasive particles, U.S. Patent (2003) 6656018B1. – reference: 14) 泉谷徹郎:光学ガラス,共立出版社,(1987) 114. – reference: 10) M. IMAJO, K. NAGAYAMA, K. KIMURA and Y. HASHIYAMA: The Analysis of Slurry Flow on Quartz Glass Polishing, Precision Engineering, 76, 4 (2010) 458 (in Japanese).10.2493/jjspe.76.458 – reference: 11) S. CHIBA, T. IGAMI and T. TOKOROYAMA: The in-situ observation of contact point under boundary lubrication condition with imitation wear particle, Journal of Material Testing Research Association,63, 1 (2018) 1 (in Japanese). – reference: 13) L. WONG, T. SURATWALA, M.D. FEIT, P.E. MILLER and R. STEELE: The effect of HF/NH4F etching on the morphology of surface fractures on fused silica, Journal of Non-Crystalline Solids, 355 (2009) 797.10.1016/j.jnoncrysol.2009.01.037 – reference: 4) S. CHIBA, T. KUSUMI, Y. AKAGAMI, T. TOKOROYAMA, and M. MURAOKA: Damage-less mechanical polishing technique for advanced crystal substrates using a resin pad and electric field-assisted polishing, Journal of the Japan Society for Abrasive Technology, 64, 1 (2020) 32 (in Japanese). |
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| Title | 2種混合砥粒研磨法を用いたガラス基板研磨加工による表面粗さ改善速度の向上 |
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