焦電結晶を用いた小型EPMAによる軽元素の分析
我々が過去に開発した,焦電結晶上に導電性の針を立てた小型電子プローブマイクロアナライザ(EPMA)による分析では,Siを含まない試料でもSiの特性X線が検出されていた.X線取り出し窓に用いていたカプトンテープを粘着剤が使われていないカプトンフィルムに換え,針を立てる台の表面に塗布した真空用グリースをカプトンフィルムとPPC用紙で覆うことで,SiのX線を防ぐことができた.改良を施した装置を用いて製鋼スラグと硫化ニッケル(NiS)のEDXスペクトルを測定したところ,製鋼スラグの分析では,帯電防止処理をせずに主成分であるAl, Ca, Mn, およびFeを検出することができ,硫化ニッケルの分析ではN...
Saved in:
| Published in | X線分析の進歩 Vol. 45; pp. 191 - 195 |
|---|---|
| Main Authors | , , |
| Format | Journal Article |
| Language | Japanese |
| Published |
公益社団法人 日本分析化学会 X線分析研究懇談会
31.03.2014
|
| Subjects | |
| Online Access | Get full text |
| ISSN | 0911-7806 2758-3651 |
| DOI | 10.57415/xshinpo.45.0_191 |
Cover
| Summary: | 我々が過去に開発した,焦電結晶上に導電性の針を立てた小型電子プローブマイクロアナライザ(EPMA)による分析では,Siを含まない試料でもSiの特性X線が検出されていた.X線取り出し窓に用いていたカプトンテープを粘着剤が使われていないカプトンフィルムに換え,針を立てる台の表面に塗布した真空用グリースをカプトンフィルムとPPC用紙で覆うことで,SiのX線を防ぐことができた.改良を施した装置を用いて製鋼スラグと硫化ニッケル(NiS)のEDXスペクトルを測定したところ,製鋼スラグの分析では,帯電防止処理をせずに主成分であるAl, Ca, Mn, およびFeを検出することができ,硫化ニッケルの分析ではNiとSを検出することができた.低エネルギーのX線は大気と装置に用いたカプトンフィルムによって減衰し,強度が低下した. |
|---|---|
| ISSN: | 0911-7806 2758-3651 |
| DOI: | 10.57415/xshinpo.45.0_191 |