Příprava struktur přes masku z polymerního rezistu

Saved in:
Bibliographic Details
Main Author: Dvořák, Zdeněk (Dissertant)
Other Authors: Urbánek, Michal (Thesis advisor)
Format: Manuscript
Language: Czech
Published: 2024
Subjects:
Physical Description: 62 s.

Cover

LEADER 01254ntm a22003377u 4500
001 zp67992
041 |a cze 
100 1 |a Dvořák, Zdeněk  |4 dis 
245 1 0 |a Příprava struktur přes masku z polymerního rezistu 
246 |a Preparation of Structures Through a Polymer Resist Mask 
260 |c 2024 
300 |a 62 s. 
500 |a Studijní obor: Materiálové inženýrství 
500 |a Studijní obor: Material Engineering 
500 |a Ústav: Ústav fyziky a mater. inženýrství 
500 |a Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně. Fakulta technologická 
500 |a Tomas Bata University in Zlín. Faculty of Technology 
506 |a Bez omezení 
653 |a litografické techniky 
653 |a elektronová litografie 
653 |a lift-off proces 
653 |a polymerní rezist 
653 |a lithographic techniques 
653 |a electron-beam lithography 
653 |a lift-off process 
653 |a polymer resist 
655 4 |a bakalářská práce 
700 1 |a Urbánek, Michal  |4 ths 
710 2 |a Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně. Fakulta technologická  |4 dgg 
710 2 |a Tomas Bata University in Zlín. Faculty of Technology  |4 dgg 
856 4 0 |u http://hdl.handle.net/10563/55270  |y Plný text v Digitální knihovně UTB