|
|
|
|
| LEADER |
00000ntm a22000007u 4500 |
| 001 |
zp60967 |
| 041 |
|
|
|a cze
|
| 100 |
1 |
|
|a Navrátil, Jaroslav
|4 dis
|
| 245 |
1 |
0 |
|a Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem
|
| 246 |
|
|
|a Polymer Resists for E-beam Writing
|
| 260 |
|
|
|c 2022
|
| 300 |
|
|
|a 88 s.
|
| 500 |
|
|
|a Studijní obor: Materiálové inženýrství
|
| 500 |
|
|
|a Studijní obor: Materials Engineering
|
| 500 |
|
|
|a Ústav: Ústav fyziky a mater. inženýrství
|
| 500 |
|
|
|a Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně. Fakulta technologická
|
| 500 |
|
|
|a Tomas Bata University in Zlín. Faculty of Technology
|
| 506 |
|
|
|a Bez omezení
|
| 653 |
|
|
|a Elektronová litografie
|
| 653 |
|
|
|a polymerní rezist
|
| 653 |
|
|
|a proces vyvolání
|
| 653 |
|
|
|a optická mikroskopie
|
| 653 |
|
|
|a mechanická profilometrie
|
| 653 |
|
|
|a Sigma Aldrich fotorezist
|
| 653 |
|
|
|a KMPR 1010
|
| 653 |
|
|
|a Electron beam lithography
|
| 653 |
|
|
|a polymer resist
|
| 653 |
|
|
|a process of resist development
|
| 653 |
|
|
|a optical microscopy
|
| 653 |
|
|
|a mechanical profilometry
|
| 653 |
|
|
|a Sigma Aldrich photoresist
|
| 653 |
|
|
|a KMPR 1010
|
| 655 |
|
4 |
|a diplomová práce
|
| 700 |
1 |
|
|a Urbánek, Michal
|4 ths
|
| 710 |
2 |
|
|a Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně. Fakulta technologická
|4 dgg
|
| 710 |
2 |
|
|a Tomas Bata University in Zlín. Faculty of Technology
|4 dgg
|
| 856 |
4 |
0 |
|u http://hdl.handle.net/10563/51261
|y Plný text v Digitální knihovně UTB
|
