Staff View: Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem

Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem

Saved in:

Bibliographic Details
Main Author:	Navrátil, Jaroslav (Dissertant)
Other Authors:	Urbánek, Michal (Thesis advisor)
Format:	Manuscript
Language:	Czech
Published:	2022
Subjects:	Elektronová litografie polymerní rezist proces vyvolání optická mikroskopie mechanická profilometrie Sigma Aldrich fotorezist KMPR 1010 Electron beam lithography polymer resist process of resist development optical microscopy mechanical profilometry Sigma Aldrich photoresist diplomová práce
Physical Description:	88 s.


LEADER	01455ntm a22004097u 4500
001	zp60967
041			\|a cze
100	1		\|a Navrátil, Jaroslav \|4 dis
245	1	0	\|a Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem
246			\|a Polymer Resists for E-beam Writing
260			\|c 2022
300			\|a 88 s.
500			\|a Studijní obor: Materiálové inženýrství
500			\|a Studijní obor: Materials Engineering
500			\|a Ústav: Ústav fyziky a mater. inženýrství
500			\|a Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně. Fakulta technologická
500			\|a Tomas Bata University in Zlín. Faculty of Technology
506			\|a Bez omezení
653			\|a Elektronová litografie
653			\|a polymerní rezist
653			\|a proces vyvolání
653			\|a optická mikroskopie
653			\|a mechanická profilometrie
653			\|a Sigma Aldrich fotorezist
653			\|a KMPR 1010
653			\|a Electron beam lithography
653			\|a polymer resist
653			\|a process of resist development
653			\|a optical microscopy
653			\|a mechanical profilometry
653			\|a Sigma Aldrich photoresist
653			\|a KMPR 1010
655		4	\|a diplomová práce
700	1		\|a Urbánek, Michal \|4 ths
710	2		\|a Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně. Fakulta technologická \|4 dgg
710	2		\|a Tomas Bata University in Zlín. Faculty of Technology \|4 dgg
856	4	0	\|u http://hdl.handle.net/10563/51261 \|y Plný text v Digitální knihovně UTB