Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem

• Main Author: Navrátil, Jaroslav (Dissertant)
• Other Authors: Urbánek, Michal (Thesis advisor)
• Format: Manuscript
• Language: Czech
• Published: 2022
• Subjects: Elektronová litografie; polymerní rezist; proces vyvolání; optická mikroskopie; mechanická profilometrie; Sigma Aldrich fotorezist; KMPR 1010; Electron beam lithography; polymer resist; process of resist development; optical microscopy; mechanical profilometry; Sigma Aldrich photoresist; diplomová práce
• Physical Description: 88 s.
• Item Description: Studijní obor: Materiálové inženýrství; Studijní obor: Materials Engineering; Ústav: Ústav fyziky a mater. inženýrství; Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně. Fakulta technologická; Tomas Bata University in Zlín. Faculty of Technology
• Access: Bez omezení