Příprava tenkých anorganických vrstev na bázi BiVO4

Saved in:
Bibliographic Details
Main Author: Pučalíková, Renata (Dissertant)
Other Authors: Smolka, Petr (Thesis advisor)
Format: Manuscript
Language: Czech
Published: 2018
Subjects:
Physical Description: 51 s. (46 903 znaků bez mezer)

Cover

LEADER 01278ntm a22003377u 4500
001 zp50234
041 |a cze 
100 1 |a Pučalíková, Renata  |4 dis 
245 1 0 |a Příprava tenkých anorganických vrstev na bázi BiVO4 
246 |a Preparation of Thin Inorganic Layers on the Base of BiVO4 
260 |c 2018 
300 |a 51 s. (46 903 znaků bez mezer) 
500 |a Studijní obor: Materiálové inženýrství 
500 |a Studijní obor: Materials Engineering 
500 |a Ústav: Ústav fyziky a mater. inženýrství 
500 |a Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně. Fakulta technologická 
500 |a Tomas Bata University in Zlín. Faculty of Technology 
506 |a Bez omezení 
653 |a vanadičnan bismutitý BiVO4 
653 |a tenká vrstva 
653 |a chemical bath deposition 
653 |a fotokatalýza 
653 |a bismuth vanadate BiVO4 
653 |a thin films 
653 |a chemical bath deposition 
653 |a photocatalysis 
655 4 |a bakalářská práce 
700 1 |a Smolka, Petr  |4 ths 
710 2 |a Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně. Fakulta technologická  |4 dgg 
710 2 |a Tomas Bata University in Zlín. Faculty of Technology  |4 dgg 
856 4 0 |u http://hdl.handle.net/10563/42378  |y Plný text v Digitální knihovně UTB