Depozice polysiloxanových vrstev v nízkoteplotním plazmatu

Saved in:
Bibliographic Details
Main Author: Šuranský, Martin (Dissertant)
Other Authors: Grulich, Ondřej (Thesis advisor)
Format: Manuscript
Language: Czech
Published: 2014
Subjects:
Physical Description: 94 s. (112 572 znaků)

Cover

LEADER 01335ntm a22003617u 4500
001 zp36714
041 |a cze 
100 1 |a Šuranský, Martin  |4 dis 
245 1 0 |a Depozice polysiloxanových vrstev v nízkoteplotním plazmatu 
246 |a Deposition of Polysiloxane Layers in Low-temperature Plasma 
260 |c 2014 
300 |a 94 s. (112 572 znaků) 
500 |a Studijní obor: Inženýrství polymerů 
500 |a Studijní obor: Polymer Engineering 
500 |a Ústav: Ústav inženýrství polymerů 
500 |a Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně. Fakulta technologická 
500 |a Tomas Bata University in Zlín. Faculty of Technology 
506 |a Bez omezení 
653 |a plazmatické technologie 
653 |a plazmatické povlaky 
653 |a tenké vrstvy 
653 |a polysiloxanové vrstvy 
653 |a organokřemičité povlaky 
653 |a Plasma Technology 
653 |a Plasma Coating 
653 |a Thin Layers 
653 |a Polysiloxane Layers 
653 |a Organosilicon Coating 
655 4 |a diplomová práce 
700 1 |a Grulich, Ondřej  |4 ths 
710 2 |a Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně. Fakulta technologická  |4 dgg 
710 2 |a Tomas Bata University in Zlín. Faculty of Technology  |4 dgg 
856 4 0 |u http://hdl.handle.net/10563/30323  |y Plný text v Digitální knihovně UTB