Ionized-Cluster Beam Deposition and Epitaxy

Saved in:
Bibliographic Details
Main Author Takagi, Toshinori (Author)
Format eBook
LanguageEnglish
Published Burlington : Saint Louis : Noyes Publications [Imprint] William Andrew, Inc. Elsevier Science & Technology Books [distributor] Dec. 1989
Subjects
Online AccessFull text
ISBN9780815511687
Physical Description1 online zdroj (239 p.) ill.

Cover

LEADER 00000cam a2200000 4500
001 78928
003 CZ-ZlUTB
005 20251006170704.0
006 m o d
007 cr |n
008 890425e19891231maua s 000 0 eng d
020 |a 9780815511687 
035 |a (OCoLC)468755667 
040 |a COO  |b eng  |c COO  |d OCLCQ  |d OCLCF  |d OCLCO 
100 1 |a Takagi, Toshinori,  |e Author. 
245 1 0 |a Ionized-Cluster Beam Deposition and Epitaxy  |h [elektronický zdroj]. 
260 |b Noyes Publications [Imprint]  |c Dec. 1989  |a Burlington :  |b William Andrew, Inc.  |a Saint Louis :  |b Elsevier Science & Technology Books [distributor] 
300 |a 1 online zdroj (239 p.)  |b ill. 
521 |a Scholarly & Professional  |b William Andrew, Incorporated. 
590 |a Knovel Library  |b ACADEMIC - Electronics & Semiconductors 
506 |a Plný text je dostupný pouze z IP adres počítačů Univerzity Tomáše Bati ve Zlíně nebo vzdáleným přístupem pro zaměstnance a studenty univerzity 
650 0 |a Thin film devices  |x Design and construction. 
650 0 |a Epitaxy. 
655 7 |a elektronické knihy  |7 fd186907  |2 czenas 
655 9 |a electronic books  |2 eczenas 
856 4 0 |u https://proxy.k.utb.cz/login?url=http://app.knovel.com/hotlink/toc/id:kpICBDE005/ionizedcluster_beam_deposition_and_epitaxy 
992 |a BK  |c KNOVEL 
999 |c 78928  |d 78928 
993 |x NEPOSILAT  |y EIZ