Chemical vapour deposition precursors, processes and applications

Saved in:
Bibliographic Details
Other Authors: Jones, Anthony C., Hitchman, Michael L.
Format: eBook
Language: English
Published: Cambridge, UK : Royal Society of Chemistry, c2009.
Subjects:
ISBN: 9781847558794
9781621987031
Physical Description: 1 online zdroj (xv, 582 p.) : ill., plans.

Cover

Table of contents

LEADER 01626cam a2200349 a 4500
001 73690
003 CZ ZlUTB
005 20240911211636.0
006 m d
007 cr un
008 090428s2009 enkae sb 001 0 eng d
020 |a 9781847558794  |q (ebook) 
020 |a 9781621987031  |q (ebook) 
035 |a (OCoLC)319518113  |z (OCoLC)300197123 
040 |a UKRSC  |b eng  |c UKRSC  |d UKRSC  |d CUS  |d CPV  |d COO  |d E7B  |d OCLCQ  |d N$T  |d YDXCP  |d KNOVL  |d ZCU  |d KNOVL  |d OCLCF 
245 0 0 |a Chemical vapour deposition  |h [elektronický zdroj] :  |b precursors, processes and applications /  |c edited by Anthony C. Jones, Michael L. Hitchman. 
246 3 |a Chemical vapor deposition 
260 |a Cambridge, UK :  |b Royal Society of Chemistry,  |c c2009. 
300 |a 1 online zdroj (xv, 582 p.) :  |b ill., plans. 
504 |a Includes bibliographical references and index. 
588 |a Description based on print version record. 
506 |a Plný text je dostupný pouze z IP adres počítačů Univerzity Tomáše Bati ve Zlíně nebo vzdáleným přístupem pro zaměstnance a studenty univerzity 
650 0 |a Chemical vapor deposition. 
655 7 |a elektronické knihy  |7 fd186907  |2 czenas 
655 9 |a electronic books  |2 eczenas 
700 1 |a Jones, Anthony C. 
700 1 |a Hitchman, Michael L. 
776 0 8 |i Print version:  |t Chemical vapour deposition.  |d Cambridge, UK : Royal Society of Chemistry, c2009  |z 9780854044658  |w (DLC) 2009419379  |w (OCoLC)244653597 
856 4 0 |u https://proxy.k.utb.cz/login?url=http://app.knovel.com/web/toc.v/cid:kpCVDPPA04  |y Plný text 
992 |a BK  |c KNOVEL 
999 |c 73690  |d 73690 
993 |x NEPOSILAT  |y EIZ