Plasma chemistry and plasma processing

Saved in:
Bibliographic Details
Format: Journal
Language: English
Published: New York : Springer New York, 1981-
Subjects:
Fyzika
chemické inženýrství
elektronické časopisy

Cover

Table of contents

LEADER 00827nas^a22002777a^4500
001 30992
003 CZ ZlUTB
005 20240910160625.0
008 070328c1uuu9999xx br p s|||||0|||b|eng|d
022 |a 1572-8986 
040 |a ZLD002  |b cze  |c ZLD002  |d ZLD002 
080 |a 53  |2 v 
080 |a 66.0  |2 v 
080 |a 66  |2 v 
245 0 0 |a Plasma chemistry and plasma processing  |h [elektronický zdroj] 
260 |a New York :  |b Springer New York,  |c 1981- 
310 |a 6x ročně 
538 |a Způsob přístupu: WWW 
655 7 |a elektronické časopisy  |7 fd186906  |2 czenas 
650 0 4 |a Fyzika 
650 0 7 |a chemické inženýrství  |7 ph114234  |2 czenas 
856 4 1 |u http://link.springer.com/openurl.asp?genre=journal&issn=1572-8986  |y Plný text 
910 |a ZLD002  |r 1997- 
992 |a ER 
999 |c 30992  |d 30992 
993 |x NEPOSILAT  |y EIZ 

Similar Items